α能譜測氡儀測量本底、干擾和污染

本底、干擾和污染

儀器本底指的是在沒有氡氣時產(chǎn)生的亂真計(jì)數(shù)。本底的產(chǎn)生可能是因?yàn)閮x器或其組分的性質(zhì)、儀器環(huán)境里其它形式的射線或者儀器本身的污染。

HS01測氡儀的設(shè)計(jì)比起其它的氡氣探測儀更加不容易受到本底的影響，但操作者應(yīng)當(dāng)對本底有個認(rèn)識，避免犯不必要的錯誤。

5.8.1短壽命的氡和釷射氣的子體

集聚在探測器表面的氡釷子體，在氡釷去除后能繼續(xù)產(chǎn)生α計(jì)數(shù)。當(dāng)您在完成一個高濃度（幾萬Bq/m3以上）氡含量樣品測量后試圖立即測量一個低本底含量（幾十Bq/m3）的氡樣品，高濃度樣品測量后留存的子體會大大的混淆測量結(jié)果。因此需要相隔一段時間（30分鐘以上，降到原來0.1%水平）再進(jìn)行下一次測量。

HS01測氡儀，在您使用嗅探模式時候，能對氡樣品以3.05分半衰期做出快速響應(yīng)。因此氡氣去除后，10分鐘能下降90%，18分鐘能下降98.44%，30分鐘本底值只留下原來的0.1%。這是任何總量探測儀器不能相比的。

釷射氣的子體比氡子體更不容易去除。釷射氣子體Pb212半衰期是10.6小時，在使用總量測量儀器時候，如果累積了大量這種子體，您可能的等上一兩天才能再次使用您的儀器。而ST2017通過區(qū)分子體的能力不必為釷射氣干擾的影響困擾。

5.8.2被吸收的氡氣

氡原子會吸附或吸收在氡氣收集腔的內(nèi)表面、管材的內(nèi)部或者干燥劑的顆粒上。在您清洗了儀器之后這些氡氣仍然能留下，然后再從氡高壓靜電收集腔體表面析出進(jìn)入氡高壓靜電收集腔體，由于很少氡氣會被吸附，因此這個影響通常會忽略不計(jì)。但在氡氣含量非常高的情況下（幾萬Bq/m3），即使很少一部分也是很可觀的，在清洗儀器之后您看到有些殘留的氡氣。

常規(guī)的辦法沒隔幾小時清洗10分鐘，直到計(jì)數(shù)率下降。即使在糟糕的情況下，氡也會通過自身3.82天半衰期衰變，終儀器會恢復(fù)正常工作的低本底水平。

5.8.3長壽的氡子體

在氡氣含量較高的環(huán)境下工作很多年后，儀器內(nèi)部的探測器表面將集聚Pb210這個具有22年半衰期的同位素。它有一個繼承元素Po210,能產(chǎn)生能量為5.3MeV的α粒子。HS01通過能量識別這種同位素，將它從計(jì)算中去除掉。因此，其積聚對儀器本底沒有多大貢獻(xiàn)。

5.8.3產(chǎn)生氡或釷的母體污染物

如果產(chǎn)生氡或釷的母體污染物入Ra226和Th228，被捕獲進(jìn)入軟管或者過濾器中。它們可能會放射氡氣或釷射氣，這些射氣會通過過濾器帶進(jìn)儀器。某些塵土可能含有足夠量的這些同位素，因此上述情形可能會發(fā)生。

因此，使用時候要經(jīng)常更換新的濾膜，將濾膜裝在整個進(jìn)氣系統(tǒng)的***前端。能有效防止這些固體污染物進(jìn)入氣路系統(tǒng)。

5.8.4其它可能產(chǎn)生的本底

儀器本身結(jié)構(gòu)材料可能存在能否發(fā)出α射線的污染物，但是這種污染物極低，通常在幾個小時內(nèi)只有一兩個計(jì)數(shù)，因此其對探測的影響忽略不計(jì)。

還有可能是Rn219或稱錒射氣，它半衰期只有4秒，它是天然U235衰變而來的。但由于自然界中U235比U238（Rn222的母體）濃度要低的多，因此Rn219基本上不會進(jìn)入探測系統(tǒng)。

儀器使用的探測器對β射線和γ射線是幾乎不敏感的，因此理論上這兩種射線不會對儀器造成干擾。但是暴露在高濃度的β輻射體和γ輻射體下，會造成探測器的輻射損傷，可能使探測器漏電流增加，導(dǎo)致能量分辨率變差。但環(huán)境水平的β射線或γ射線不會對測氡儀造成任何明顯的影響。